Plazmas procesora darba princips

Procesors plazmā sastāv no plazmas ģeneratora, gāzes piegādes cauruļvadiem un plazmas sprauslas. Plazmas ģenerators ģenerē augstu - spriegumu, augstu - frekvences enerģiju, kas tiek aktivizēta un kontrolēta tērauda sprauslas caurulē, lai iegūtu zemu - temperatūras plazmu. Saspiestais gaiss virza plazmu pret sagataves virsmu. Kad plazma mijiedarbojas ar virsmu, notiek izmaiņas un ķīmiskās reakcijas. Tas attīra virsmu, noņemot ogļūdeņražu piesārņotājus, piemēram, taukus un piedevas. Tas var izraisīt raustīšanos, ko izraisa kodināšana, veidojot blīvu krustu - saistītu slāni un ieviešot skābekli -, kas satur polārās grupas (hidroksilgrupa un karboksilgrupas). Šīs grupas veicina saķeri ar dažādiem pārklājuma materiāliem, optimizējot savienošanu un krāsu lietojumus. Ārstēšana ar plazmu rada arī ļoti plānu, augstu - stiprības pārklājumu, padarot tos ideāli piemērotu savienošanai, pārklāšanai un drukāšanai. Lai uzlabotu saķeri, nav nepieciešama skarba mehāniska vai ķīmiska apstrāde.